高纯铬靶 金属合金铬铝CrAl溅射靶

说明:

从铁磁薄膜、红外滤光片中的高折射率薄膜、半导体薄膜、电容介质薄膜、光电导薄膜、润滑膜、磁性和记忆元件等,金属溅射靶已被广泛应用。

 

技术:

我们使用的制造工艺取决于目标材料的特性及其应用。制造方法有真空熔炼和轧制、热压、特殊压烧结工艺、真空热压和锻造。

 

规范:

目前,我们的标准圆形靶标直径范围为1“到20”,矩形靶标的长度可达到或超过2000mm,具体取决于金属的单件或多件结构。

 

圆靶:

直径:10毫米至360毫米

厚度:1毫米至10毫米

 

板靶: 

宽度:20毫米至600毫米

长度:20毫米至2000毫米 

厚度:1毫米至10毫米

 

管靶:

外径:20-400 mm

壁厚:1mm至30mm

长度:100毫米至3000毫米



Tel:17729568788

网站:www.cynfm.cn
地址:陕西省宝鸡市高新区宝钛路88号

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