高纯钛靶

纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。

表面工程用靶材(装饰工具)多弧靶

品 名
纯度
密度
镀膜优势色
形状
常规尺寸
应用行业
钛铝(TiAl)合金靶
2N8-4N
3.6-4.2
玫瑰金/咖啡色
圆柱形
直 径
60/65/95/100*30/32/40/45mm
/
纯铬(Cr)靶
2N7-4N
7.19
白色/黑色
圆柱形
纯钛(Ti)靶)
2N8-4N
4.51
金黄色/枪黑色
蓝色/玫瑰红
圆柱形
纯锆(Zr)靶
2N5-4N
6.5
金色
圆柱形
纯铝(Al))靶
4N-5N
2.7
银色
圆柱形
纯镍(Ni)靶
3N-4N
8.9
金属本色
圆柱形
镍钒(Ni)靶
3N
8.57
蓝绿色
圆柱形
纯铌(Nb)靶
3N
8.57
白色
圆柱形
纯钽(Ta)靶
3N5
16.4
黑色/紫色
圆柱形
纯钼(Mo)靶
3N5
10.2
黑色
圆柱形



靶材的主要性能要求:

纯度

纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

Tel:17729568788

网站:www.cynfm.cn
地址:陕西省宝鸡市高新区宝钛路88号

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