TA1 真空镀膜钛圆靶

产地:中国陕西(大陆)

品牌名称:CYNFM

现货尺寸:98*45/95*40/128*45/100*40

应用:工业PVD加工/包装/半导体

材质:钛,Zr,Ni,Al,TiAl,Nb

尺寸:根据客户要求

化学成分:金属

是否粉末:不通电

关键字:真空镀膜溅射靶

工艺:锻造,研磨,光亮

颜色:金属色

纯度:2N8〜5N

认证:ISO,EN10204 3.1,EN10204 3.2

类型:溅射靶,圆形靶,

零件公差:±0.05

镭:1.6-6.3

检查:超声波检查,水压测试。


产品特点

用于PVD涂层的GR2钛圆形靶材对活性气体具有强吸附性。在汞壁上蒸发的新鲜Ti膜形成具有高吸附能力的表面,并具有出色的吸气性能,可与除惰性气体外的几乎所有气体发生反应。该特性使其广泛用作超高真空泵系统(如钛升华泵,溅射离子泵等)中的吸气剂。

 

产品描述

用于PVD涂层的GR2钛圆形靶材是最常用的靶材之一。钛靶材不仅具有良好的附着力,而且还可以通过使用钛靶材和合适的反应气体制成各种美丽的颜色。此外,它可以制成多种颜色,例如钛灰色,深灰色,黑色,仿金,棕色,蓝色,紫色等。由于具有出色的附着力,因此对陶瓷和玻璃基材具有非常好的附着力。由于高性能,它也可用作制造薄膜电阻器或薄膜电容器的材料。材料种类繁多,因此可以提供更多选择以满足需要。宝鸡晨源金属材料有限公司

 

高纯金属溅射靶

 铝

 Al

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 3N~6N

 铬

 Cr

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 2N~3N5

 铂

 Pt

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 4N~5N

 镍

 Ni

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 4N~5N

 钴

 Co

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 3N~4N

 锆

 Zr

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 2N2~4N

 钛

 Ti

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 4N~5N

 铜

 Cu

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 4N~5N

 钼

 Mo

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 3N~4N

 铌

 Nb

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 3N5

 钽

 Ta

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 4N5

 钨丝

 W

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 3N5

 铪

 Hf

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 3N

 钒

 V

 颗粒,圆形,平面,可旋转目标

 2N5~3N

 

Tel:17729568788

网站:www.cynfm.cn

地址:陕西省宝鸡市高新区宝钛路88号

公司方形二维码_2020-07-23-0.gif



17719613700 QQ:194056786 扫码访问手机站

Sitemap